5月28-30日，第二屆中歐國際硅光技術研討會在重慶成功召開。備受期待的聯(lián)合微電子中心有限責任公司（CUMEC公司）180nm成套硅光工藝PDK（process design kit）發(fā)布會也于今（30）日成功舉辦。
這標志著CUMEC公司具備硅基光電子領域全流程自主工藝制造能力，開始向全球提供硅光芯片流片服務和EPDA設計服務。
發(fā)布會上，CUMEC公司執(zhí)行董事兼總經理韓建忠博士在現(xiàn)場致辭中表示，CUMEC公司將始終堅持開放合作的發(fā)展理念，穩(wěn)步實現(xiàn)國際一流的高端特色工藝平臺建設目標，與同行專家學者海內外朋友一道，共同為硅基光電子技術與產業(yè)應用的發(fā)展貢獻智慧和力量。
近幾年，硅光芯片被廣為提及，是世界各大國搶先布局的重點，被認為是芯片領域“換道超車”的核心技術。
5G時代，數(shù)據(jù)傳輸需求越來越高，傳統(tǒng)的電芯片在信號傳輸模式上遇到了帶寬、功耗、延時等一系列瓶頸問題。將光引入芯片，可以提高傳輸性能實現(xiàn)帶寬100倍以上的增長，同時功耗和尺寸還有大幅度的降低。
硅基光電子芯片技術，則是將光的極高帶寬、超快速率和高抗干擾特性，以及微電子技術在大規(guī)模集成、低成本等方面的優(yōu)勢進行結合，形成一個完整的具有綜合功能的新型大規(guī)模光電集成芯片。
這種芯片適用于5G、數(shù)據(jù)中心、無人駕駛、人工智能等領域。因此，在重慶的大數(shù)據(jù)智能化發(fā)展中，硅基光電子芯片極具想象空間。
歐洲硅光聯(lián)盟主席、比利時根特大學教授、imec高級研究員Roel Baets從比利時發(fā)來線上致辭，他表示，硅基光電子技術作為一項新興技術正在快速發(fā)展，產業(yè)化速度亦在不斷加快，CUMEC公司發(fā)布的180nm成套硅光工藝PDK令人振奮，相比集成電路工業(yè)無比成熟的PDK，硅基光電子領域的PDK雖然已經出現(xiàn)了幾個，但是還很單薄，還在發(fā)展的早期，CUMEC公司發(fā)布的PDK是硅光領域的一大進步。
科普：
硅基光電子學是探討微米/納米級光子、電子、及光電子器件的新穎工作原理，并使用與硅基集成電路技術兼容的技術和方法，單片或混合集成在同一硅襯底上的一門科學。
硅基光電子學擬解決的關鍵問題包括: 微納米范圍之內的光電相互作用及影響，微納范圍內光-光，光-熱、光-機，光-磁，光-生化等的傳感行為，微納光電器件的計算機模擬，微納光電器件的耦合，微納傳感器件的集成，微弱信號的探測與放大，微納薄膜技術，電子束光刻，納米壓印技術，聚焦離子束加工，高精度等離子體工藝等。
硅基光電子學目前最迫切的需求來源于高速度，大容量，低成本的計算機網絡，寬帶通信網絡，物聯(lián)傳感網絡，以及大數(shù)據(jù)中心。